淄博言赫特气有限公司的电子级(VLSI)氯化氢产品生产装置于2003年投产，经北京市科委鉴定，主要用于半导体器件生产中单晶硅片的气相抛光、外延基座腐蚀及硬质合金制造。
    近几年来，随着我国超大规模集成电路、平板显示器、光伏发电等产业的迅速发展，电子气体市场需求量明显增长，电子级氯化氢气体的国产化已是大势所趋。我国在国产化方面取得可喜进展：国产高纯氨改变了国外气体公司垄断市场的格局，高纯四氟化碳“有价无货”时代也宣告结束，高纯氯化氢已成功打开国内市场。
     高纯氨作为电子工业中氮化膜的成膜气体，是化学气相沉积（CVD）重要的“氮”源。光明化工研究设计院总工程师孙福楠介绍说，2010年，国产高纯氨在太阳能领域发挥了巨大的作用。由于国产高纯氨进入市场，改变了国外气体公司垄断市场的局面。
    我公司的5.0N电子级(VLSI)氯化氢产品经国内外多家半导体重点企业连续大量在单晶硅片气相抛光和外延基座腐蚀工艺中广泛使用，制得的器件产品质量与国际知名品牌相当。